光刻机制造中最难的是哪一部份？中国现在能自己制造光刻机吗？

1. 光刻机制造中最难的是哪一部份？中国现在能自己制造光刻机吗？

在光刻机的制造过程中，对我们来说最困难的一步就是西方国家对我们的技术封锁，正是因为这些技术封锁，我们国家目前还不足以造出光刻机。
1、 光刻机制造难度。ASML目前是荷兰光刻技术的领导者，占据了80%的全球市场份额。只有ASML能生产出最先进的EUV光刻技术。光刻机的技术门槛很高，这是人类智慧的产物。ASML光刻机90%的零件来自外部采购，包括德国的光学设备、美国的计量设备和光源设备。ASM还有一个规定，就是只有投资ASML，才能获得第一供应权，也就是说，我们想买光刻机，就必须先去投资，ASML在这种合作模式得到了大量的资助。英特尔、三星、台积电在ASML都持有的有相当数量的股份。

2、 我国的光刻机发展。中国的光刻机制造商是上海微电子，主要专注于低端市场，生产90nm及以下工艺，与7Nm ASML工艺相比还有很大差距。虽然上海微电子并不具备在高水平光刻市场取得突破性进展的能力，但在低成本光刻市场上却从无到有地占据了垄断地位，目前上海微电子正在向高端光刻机发展。据说它突破了24nm工艺的关键技术，在不久的将来我们就能看到它了。

3、 未来中国能制造光刻机吗？未来我们国家一定会有光刻机，就像当时的原子弹和氢弹一样，其他国家对我们技术封锁，我们用算盘来计算数字，最终是成功造出来了氢弹和原子弹，现在我们国家的技术要比以前好太多了，在这种情况下，我们肯定能造出来光刻机，打破西方国家的技术封锁。

总结：我们国家的光刻机正在路上，如果速度够快，2025年之前我们就能把光刻机给造出来。

2. 中国有大型国企研发制造光刻机吗？

终是打破了荷兰的垄断，中国有了自己的光刻机，前途无限！

3. 光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界？

4. 光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界

我个人认为，西方欧美国家在高科技方面抱团对我国及俄国的技术封锁。才造成今天俄罗斯，在高科技电子方面的落后，看看苏30战机内部显示屏，一目了然。今天我国和俄国在大飞机及华为芯片的合作，一定会突破西方的封锁！

目前最先进的光刻机已经不是透镜式，因为波长极短的紫外线会被玻璃吸收，要用反射式镜面，难度更高。我们差的不是一点半点。ASML的光刻机，也离不开蔡司的镜头，美国的光学仪器，也是组装嘛。那么，我们也可以分几步走：暂时搞不好的，可以先买。等将来突破了，再用自己的。如此一来，岂不两全其美。当然，持续研发，需要持续投入，这就离不开国家支持。
自中兴事件以来较少看到有关芯片的好消息，这个消息无疑给国人些许安慰。相信中华民族是强大的民族，国外的技术封锁是阻止不了中国的前进步伐，经过国人艰苦卓绝的努力，一定会在不远的将来突破芯片技术瓶颈独步于天下。

当芯片物理尺寸区别不是很大，功效都是一样时，没有什么值得去纠结的了，在功效一样情况下，他国小尺寸芯片与我国尺寸稍大芯片比较起来，这个尺寸大小完全可以忽略不计了，中国完全没有必要心慌于人，倒是我觉得媒体过度炒作了，中国根本不用慌。
“整个机器需要三万余个零件，每一个零件都不能有丝毫偏差，一丝一毫的偏差都不能使千万的电路一丝不乱，毫无偏差的分布在指甲盖大小的芯片上面，我国在上面要走的路还很长。”，还好，我们是文盲，要不还真让你们这些文科生就给懵了！我们知道有公差配合，配合有标准，有偏差不怕，怕的是公差带设计计算不合理，公差带要求低了，产品不达标，高了产品生产成本高昂，也是浪费。这是常识，用违反常识的言论堆砌的文章，小了被人耻笑，大了那就是误国误民。奉劝不懂理科工科的文科生，以后尽量不要去写理工科的文章。 中国现在有很多领域很落后，原因挺简单：1、没有市场；2、没人去做；3、没有做过。就拿汽车发动机来说，国内的市场就很小或没有，（别跳脚），试问：两辆外观一样的轿车，一辆用吉利发动机一辆用丰田的，价格等都一样，买车时你选哪一个？你的答案就是中国品牌发动机难于打开市场的原因。

没关系的，让他们封锁就是，他们用7nm也好5nm也好，我们就用我们的90nm不就是芯片大点功耗高点么，同样的芯片人家做出来的cpu一点点大我们做出来的一个桌子大也没关系，不就是多耗点电体积大点么我们能用就行，大不了今后扛着手机出门，多洋气。现在国外对我们光刻机禁运。那就想想别的方法。不能用和平方式取得得东西就用别的方式。自己造出这样的设备就先别希望去抢市场了。还是先满足自己使用再说。
许多电子原件技术是80年代后落下的，70年代我们的晶体管质量相当过硬，亲身经历，70年代5安培晶闸管可以长时间工作在10安培！80年代也还可以，算正常吧，90年代就变烂了，直至现在，功放的2SA1216与2SC2922都造不好了！竟然没有真正能代换的国产品，耐压与最大电流都垃圾的不行，只能达到额定量的一半，非得买东芝原厂的才能行！这个早就没有什么技术含量了，但就是造不好，怎么回事？

相信有朝一日，不久将来，终有一日，弯道超车。尽是些无谓说话。今天世界，讲的是全球化，没有任何一个国家可以独霸全球所有科技及制造，军备竞赛，科技竞赛只会极容易使经济崩溃。。尊重世界的游戏规则，尊重契约。融入世界之中，各自发挥优势，扬自己所长，以别人之长补自己所短才是正路。乱呼口号只会误国！国内各大科技公司肯定一窝风的研发光刻机、之类的高科技产品、设备、是不是能有另辟稀径研发新材料、易加工、等等吧！目前的产品、肯定费心费力、费钱。这样才是弯道超车。

干了也就那么回事！十几年前，有人说中国研发不了新车型，外国开发一个新车型要多少百亿美金，什么模具，什么发动机，什么工厂，什么供应链管理，好像要什么没什么。看看现在，去做了，除开不争气的一汽闹个笑话几百亿之外，大家不都在开发新车型吗？大家不都赚钱了吗？光刻机也就那么回事，别人说个数字吓吓你，你也信？
当外国人不给芯片中国的时候，自己做出来的那怕是90纳米也可以用啊，感觉低纳米的东西主要也是电脑和手机这些高端产品用啊，90纳米的做出来，也有很多不追求高性能的地方可以用上啊，比如监控，汽车，电视，路由器，交换机，各种低端智能设备什么的，用得上有很多啊，这些东西，只要做开了，后面就出来了。

我国28nm已经量产了。14nm已经在走量化过成了。国际上从14到现在10用了几年。没那么邪乎。芯片生产有它的特点是高投入高产出它受市场经济影响很大。人家开发早都已抢占了市场。我们后发得不到市场就难以为继。因为投入太高。国家太跟流氓国家讲市场经济了。现在好了美国的流氓手段做到面上了。我国就可以以国家利益手段占领市场了。
自主研发追赶要好过拾人牙慧放弃不追赶，别人高价丢给你现成的不如自己创造机遇生产，那还不如个满大街收破烂的，他还知道卖巧钱挣差价不实诚的他不收还不够他出力拉车的辛苦钱，国家核心技术国之重器岂可以受制于狼子野心的外国？分分钟坑到你倾家荡产，国运岂可以是区区金钱可以衡量的，房子再挣钱能换几个原子弹。

中国已经有独立自主知识产权的光刻机，包括最难的光源设备。只是没有达到荷兰阿斯麦那么先进而已。毕竟中国光刻机起晚，并不是像你们这些自卑心严重的人想的那么困难。达到世界领先水平，相信用不了多长时间。
很大的难度在于精密加工，中国制造业目前还是处于低端，少数高端的，而光刻机要求所有零部件都必须是最顶级的。我只能说，中国会造出来光刻机，但需要时间，毕竟就算懂原理，制造业跟不上也不行，所以目前中国可能造不出顶级光刻机，因为制造业跟不上，但我相信未来一定可以造出光刻机，毕竟中国是全球唯一一个拥有全工业门类的国家！

ASML卖了DUV光刻机给中芯国际，已经卖了EUV光刻机，应该去年底交货。去年初不知道为什么厂房大火，阻碍了交货日期，当今年交货时，因为出口批文过期，再申请后，荷兰政府被川普压迫，不批准出口而已。中芯国际可以用DUV光刻机做7nm芯片，麻烦一些而已。日本的佳能及力康都产光刻机，但没有EUⅤ光刻机。光刻机零件不是军用物品，好像不是对中国禁运。美国可能因为川普之故禁运，但其他国家不好说，尤其是德国。中国也有跟日本购买光刻机。光刻机是人造的，再过几年便可以知道中国人可不可以做。不做的原因是因为市场太细，是缝隙产品，用户又少，养不活太多厂家而已。
集大成说得好，中国现在是制造业大国，但是中国很多制造企业缺少一个精益求精的企业管理精神。量虽然上来了，但是和德国，日本，法国，意大利这样的国家相比，差距很大。可能是中国的工业时代起步较晚，但是工业理念需要一起转变，然后还有一系列的事情要做！信息时代的来临，在大潮中我们受益良多，但是我们是在别人创造出来的基础上延伸，没有做到在基础中抓牢稳固。一个光刻机不难，难得是对每个附件了解透策运用自如。

所以说，中国从小学到大学在到科学家，要重视人才，重视品质，重视科学，现在老师都是看学生家长住什么房子，开什么车子，在什么单位，开什么公司，本质上还是没有做到人人平等，所以中国有些东西是真的没法跟国外比的，为什么国外要封锁中国进口的，高，精，端，产品，主要还是不重视素质教育和人人平等，有钱，有权，有关系的孩子到最后学习不怎么好但最后成了人才，中国就是这点问题。
都是已经成熟的产品，只要世界上有厂家做，就算美国的我们不买，其它国家的未必不卖，相信只要有钱，就算买不到那几家的，其它同类产品也一样能替代，精度也不会差多远！但这样看谁来运作，华为肯定可以做到！国企肯定不行！别问我为何？

说难听点，最后的办法可能就是战争。从宏观角度考虑，世界是动态平衡的，如果谁要刻意让一部分人活不下去，那么结果只能是战争。为什么经济危机会引发世界大战，因为没有哪个民族会坐以待毙。国家现在重点培养的都是，本科生，研究生，博士生，什么工厂的一线技工，根本就是一个屁，屁也不是。随时都有下岗的危险，国外有三代人学一个技术，在一个岗位，干一种活。在中国根本不可能实现。基础技术的延续性根本达不到，何谈机械制品的精度和装配工艺。
光刻机制造瓶颈在克刻的精度要求，所以要以要求定精度，主要是机械制造上要严要，首先是制造的母机精度再谈的上制造精度，再就是制造的人才，精度一高装配就要用热胀冷缩的办法，不光是尺寸合格直线度、平行度、圆柱度都要严，要不装上去动不了。再就是光柱的控制，我认为挡板螺旋挡调光柱是一个可操作的办法。至于放缩电路图、数控不是问题。这就是我的观点。

原子的直径约0.1nm（1埃）或更小，气体分子间距大约1nm（标准状态），直径大约也近似这个大小。制造误差只能以材料分子的大小为单位。分子或原子是不能取小数的。所以，从物质的分子结构看，透镜磨制最小误差（不平整度）应该是半个分子大小，实际可能是一个分子大小，约100pm。
美国也不是买荷兰的光刻机，全世界就这一家造，但是中国就是要样样第一，比如圆珠笔芯全世界也只有瑞士在生产，美国也不行，现在中国也可以生产圆珠笔芯了，要不然喷子又要喷。就象国际空间站一样不带中国玩，最后中国自己搞一个，虽然过程艰苦但还是挺过来了。可控核聚变西方看到中国的实力就拉中国入伙，中国承接的部分进度领先，同时中国自己也独立打造一个自己的，即要合作也要独立。再过二十年，相信中国会在每一个重要领域都站在第一方阵。

5. 现代的高端光刻机，哪些国家才能制造？

荷兰和日本。最大的光刻机制造商是荷兰ASML，这是一家总部设在荷兰埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

产品服务
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。
ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。

6. 不需要光刻机，真的能够制造出芯片吗？

不需要光刻机，真的能够制造出芯片吗？芯片制造是我国科学家面临的大问题。有必要突破西方国家的芯片封锁，不仅需要升级闪电机，还需要具有高强度掌握光刻胶的应用。光刻和蚀刻机是芯片制造所需的两个主要设备。现在我国的研究人员通过蚀刻机的技术困难成功地突破，但瞬间机器的困难并没有破碎。很多人都担心，没有照明机器，芯片会不会做到吗？事实上，它不必担心太多了。这不是中国专家打破常规取代了光刻技术并给了！

有人说，中国希望制作芯片，即使有一个轻微的时刻还是不够，也有必要打破西方国家的垄断师的光致抗辩。光刻的第一步是在样品上施加光致抗蚀剂，然后将其覆盖到所需位置。目前，我国的光刻技术和欧洲和美国是差距，所以最好的方法是跳出来，取代了其他技术计划。据浙江新闻报道称，母鸡恏研究小组决定打破常规，用水而不是光致抗蚀剂，将样品放入真空设备中，在样品冷却后，然后注射水蒸气，等待它，研究人员将是他们自己的“冰明胶”。

“icelastic”技术是非常有利的，并且水蒸气可以覆盖任何形状的表面，即使是小样品也可以，并且水蒸气非常光，并且如果施加可以在脆弱的材料上加工。水的性质是相对特别有利的，并且电子束可以分散水，从而可以节省非常麻烦的步骤，并且不需要重新使用传统光刻等化学试剂。清洁模具并形成模具，不仅可以避免洗涤引起的污染，或避免由未清洁引起的质量问题。

该技术已经能够完成数十个纳米的程度，并且随着科学研究水平不断改进，当前光致抗蚀剂的最终雕刻也很可能也很可能。从世界研究的角度来看，对“冰胶”取代光致抗蚀剂并不大量的研究。除了我的国家外，只能使用两个实验室，另一个是丹麦。当我了解到我国获得的这个重要科研结果时，一些网友嘲笑，在这项技术中美国似乎很慢这次我给了西方课程。

7. 中国的光刻机达到了世界先进水平，但为何生产高端芯片依然困难重重？

 018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。
▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍
刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies) 4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。
中科院SP超分辨光刻机
提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。
该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。

▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机
该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

▲中科院研发的光刻机镜头
目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

▲中科院SP光刻机加工的样品
然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。
据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。
总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。
显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

8. 世界上有企业能做生产芯片的光刻机吗？这项技术有多难？

世界上制造光刻机技术最为先进的应该是荷兰，荷兰现在疫情闹得挺严重的，俄罗斯曾经给出一个神助攻督促，或者说给荷兰建议用荷兰的供货机换我们的口罩，因为现在医疗资源非常紧张，尤其是口罩和防护服。我们国家在光科技的研究制造方面和世界一流水平还有差距，我们不断的和全球做生意，有了经济交流，自然清楚其他国家处在一个什么样的水平大型的光客机精度够高的，光客机对我们国家的科技进步是产生决定性的作用的，比如说我们现在手机电脑所使用的芯片，我们的手机芯片是使用8毫米的还是6毫米的还是5毫米的，很大程度上取决于光刻机到底有多先进，而我们没有精度特别高的工作机，所以我们的自主芯片有难度。有很多企业是可以自己制造光刻机的，光刻机要说简单也简单，说难也难，如果说精度要求不是特别高的话，我们国家自己制造的，其实也没有问题，但是要求足够高的精度那就有问题了，因为掌握这些顶级技术的国家就那么几个，而且那些国家他们都形成了一个内部的联盟，这些技术不对外出口，他们内部封闭，我们连相应的研究资料以及设备都买不到，有钱也买不到，所以这是没有办法的事情，我们就得不断去提高自己的自主创新能力，自己去解决这个问题，毕竟靠别人永远不如靠自己。研究这个东西，当然不是个体企业的资金所能够支持的，有很多世界上能够制造高级光客机，也就是那些顶尖技术的光客机的企业都是有国家支持的，有他们的国家级拨给他们相应的资金，政策，让他们有更多的研发空间，能够去不断提高自主的创新能力，在世界范围内占有一席之地，对于提升综合国力，提升国家地位有着非常大的作用。