制造难度不亚于芯片，已投3000多亿研究，却仍被美日垄断90%市场

1. 制造难度不亚于芯片，已投3000多亿研究，却仍被美日垄断90%市场

自从华为遭到美国的针对之后，国人开始意识到芯片的重要性。为什么美国如此针对华为，原因很明显，华为有美国忌惮的技术。那就是此前火爆全球的5G技术，华为的5G领先全球，就连美国也不得不承认，短时间内，他们是不可能超越的了的。华为作为一家民企，能够做到如此领先的地步，实属不易。美方真正担心的应该是这项技术会被应用到军事领域。如今，在我国科学家们的努力下，我国的云计算、人工智能、航空航天以及芯片等多个领域实现快速发展和进步。   
     
    或许正是因为我国如此快速的进步，让美国感受到了前所未有的危机感，所以他们给一些芯片发达国家下令，和他们同流合污，要求对我国禁止出口EVU光刻机及其相关一切技术。美国这项政策实施以来，对我国的芯片制造影响确实很大，至今仅能实现14nm的制程工艺，但欧美已经能够实现7mm芯片的制造工艺。我国的芯片虽然技术够用，但却只能满足16%的使用市场，在高端芯片上出现了严重供给不足的局面。   
     
    然而高 科技 领域可不止芯片这一个，在我国还有一个十分重要的领域，比芯片领域还要高深，技术难度还要大。它就是科研领域所要使用到的精密仪器。在2021年之前，我国每年至少要花4000亿用于仪器进口，很多精密仪器我们至今连山寨版都仿造不出来。比如说核磁共振机，CT机等等。这些高精度仪器在国内的自给率上不足5%，而大多数都只能依赖从美日等一些国家进口。   
     
    虽然我国已经陆续投入了3000多亿用于研究，但依然见效甚微，还是无法满足国内的巨大使用缺口，进口他国的高精度仪器依然是常态。毫不夸张地说，美日等一些国家垄断着我国高精度仪器至少90%的市场，如果这一局面不被打破的话，每年我国就要多花几千亿给这些国家。好消息是，近年来欧美一些留学生不再选择定居国外，而是纷纷回国发展，相信有了这些人才助力，我国一定能扭转这样的逆差。

2. 日本断供关键材料，国产芯片突围之路再添变数，这次该做个了断了

  为了应对美国的芯片禁令，国内市场的那些被美系技术所垄断的设备、材料入手，展开了有针对性的破局行动。 
       在中科院、清北高校等顶尖科研机构以及华为等先进 科技 企业的团结努力下，被美企垄断的   蚀刻机   、   离子注入机   、   薄膜生长材料   、   抛光清洗机   等关键设备材料，先后被中微半导体、中国电科等国产企业突破。 
    就连ASML认为我们造不出的光刻机，也传来了好消息。 
    上海微电子自研的光刻设备已经来到了28nm精度，且完成了技术检测与认证，   预计年底便可下线商用   。继清华大学突破EUV光源技术之后，中科院旗下的上海“光机所”，也熟练掌握了可以有效提升光刻分辨率的OPC技术。 
        或许目前我们拥有的设备技术不如老美的好看好用，但用来应付垄断，却可以堪当大任   。 
    随着国内市场“去美化”步伐的提速，   万众瞩目的“中国芯”终于迎来了开花结果   。 
    电子信息研究院温晓君已正式表态：   国产28nm芯片将于今年实现量产，14nm芯片会在2022年进入国内市场。  
    在中低端领域逐渐站稳脚跟的国产芯片，接下来必然会快速地向高端领域进军，突破老美的封锁指日可待。 
    然而，谁曾想到，在这关键时刻，却又跳出来了个落井下石的小丑，   给国产芯片一片光明的突围之路增添了未知的变数   。 
       据外媒报道，日本方面做出断供我国市场高端光刻胶的决定，而它的越信化学公司，已经正式对外宣布，将不再计划向中企出手Krf光刻胶。 
    光刻胶是芯片制造不可或缺的材料，在该领域，   日本越信化学公司一直是业内核心，占据了全球约90%的市场份额   ，全球除了它之外，也只有老美能勉强在高端光刻胶领域做到自给自足。 
     日本的突然断供，可谓是给了正在全力突围老美封锁的国产芯片一记闷棍   。 
       不过换个角度来看，既然我们意在打造一条自主可控的半导体产业链，那么   潜在的问题和对手能够早些浮出水面并不是一件坏事   。这或将让我们重新审视破冰的方向，若不想再被“卡脖子”，   仅仅是“去美化”还不够，实现“国产化”才是正确的路   。 
    尤其是对于日本， 历史 的烙印永远无法抹去。除了光刻胶断供一事，近期索尼公司的辱华事件，更是值得所有人警醒。 
       笔者虽位卑，但未敢忘忧国。在无数国人高喊让索尼滚出中国的同时，包括光刻胶领域在内，我们也该跟它做个了断了！ 
    令人振奋的是，   国产企业没有让我们失望，继南大光电突破Krf光刻胶核心技术后，上海新阳则更进一步   。 
       据公开资料显示，上海新阳已经完成了对高端光刻胶的开发，目前处于商用测试阶段。从布局规划来看，   如果顺利的话，国产高端光刻胶于2022年便可实现小批量销售，2023年便可大规模量产   。 
    在光刻胶的研发上，国产企业正在加速完成对日本企业的替代。 
    这样的好消息实在是解气。笔者个人认为，国内市场无论有求于谁，都坚决不能有求于日本。 
    国产半导体产业的图强和发展固然重要，但更重要的是，前辈们用血和肉捍卫的民族尊严坚决不容触碰。